当社は、下記のとおり参加・出展いたします。
■第72回応用物理学会春季学術講演会
日程：2025年3月14日（金）～17日（月）
会場：東京理科大学野田キャンパス
○講演・セミナー
・3/16（日）11:00〜 @K103(講義棟)
口頭講演 登壇者：Roberto Iaconi
16a-K103-8「Towards accurate CMP simulations: Bridging experimental data and numerical models for 6-in SiC wafers」
※この成果は、NEDO（国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構）の助成事業の結果得られたものです。
・3/17（月）9:15〜 @K505(講義棟)
口頭講演 登壇者：関 翔太（取締役・技術統括）
17a-K505-2「半導体製造における企業間を跨いだデジタルツインによるウェーハ・デバイスプロセスの全体最適化」
※この成果は、NEDO（国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構）の委託業務の結果得られたものです。
・3/17（月）10:45〜 @K505(講義棟)
口頭講演 登壇者：Kevin Operiano
17a-K505-7「Enhancing an Autoregressive Generative Wafer Polishing U-net Model」
※この成果は、NEDO（国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構）の助成事業の結果得られたものです。
・3/16（日）11:45〜 @K103(講義棟)
※[16a-K103-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術セッション終了後
ショートセミナー 登壇者：髙石 将輝（代表取締役）
「プロセスインフォマティクスの展開可能性について」
○企業展示 JSAP EXPO Spring 2025 @東京理科大学 野田キャンパス 森戸記念体育館 「小間番号：E-87」
3月14日（金）～16日（日）9：30～18：00
3月17日（月）9：30～12：00
皆様のご来場をお待ちしております。
